Plasma Etch

חברת Plasma Etch נוסדה בשנת 1980 כחברה קטנה למתן שירותי אחזקה לציוד ה-Plasma Etching (איכול בפלזמה) הקיים בתעשיה האלקטרונית. היכולת לקבל תוצאות איכול מושלמות במערכות פלזמה והקשרים הקרובים ביחסי עבודה עם מפעלים רבים הובילו להיווצרותה של החברה.

מערכות פלזמה משמשות בתעשית האלקטרוניקה, המיקרו-אלקטרוניקה, המעגלים המודפסים, הציוד הרפואי ועוד. לחברת Plasma Etch פטנטים רשומים אשר מייחדים את מוצריה ממערכות פלזמה אחרות בשוק:

• Electrostatic Shielding : מערכות Plasma Etch מצוידות במיסוך אלקטרוסטי אשר שומר על אחידות הפלזמה על פני האלקטרודות. פטנט זה יחודי לחברת Plasma Etch.

• Process Temperature Control: אחידות הטמפרטורה לאורך תהליך הפלזמה. בעזרת הפטנט של Plasma Etch ניתן לבקר כל טמפרטורה רצויה - חימום או קירור. אין צורך בתהליך חימום מוקדם או יצוב טפמרטורה כמו במערכות אחרות הודות לפטנט היחודי של Plasma Etch.

בחברת Plasma Etch יש קוי יצור של מערכות שונות לאיכול והכנת שטח בפלזמה. החברה הינה מקור אמין ביותר לציוד ושרותי מידע לאיכול בפלזמה, הן בארה"ב והן מחוצה לה. הטכנולוגיה לאיכול בפלזמה, נמצאת בשימוש נרחב בכל העולם, לצורך הסרת זיהומים אורגניים ואנאורגניים ובכך להגביר את כושר ההרטבה (WETTING), שיפור חוזק ריתוכים והלחמות וסילוק משקעים ושאריות חומרים הנוצרים בתהליך ייצור הרכיבים האלקטרוניים. התהליכים הללו מתבצעים בתנאים ובשליטה מדויקים, ללא הסיכונים של הפסולת הנוזלית הקשורה לתהליכי ניקוי ואיכול כימי בתמיסות נוזליות.



מידע נוסף:
אתר חברת Plasma Etch

מערכות Plasma Etch